1、二極管

• 在一塊本征半導(dǎo)體中的兩邊摻以不同的雜質(zhì)，使其分別形成P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體，兩區(qū)交界處形成PN結(jié)（耗盡層，又稱勢壘區(qū)）。

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由于PN結(jié)多子的擴(kuò)散運動，P區(qū)與N區(qū)原本的電中性被被破壞，兩區(qū)交界處形成耗盡層，耗盡層中的內(nèi)建電場使少子產(chǎn)生漂移運動，同時阻止多子擴(kuò)散，最終達(dá)到動態(tài)平衡，PN結(jié)中無電流通過。

內(nèi)建電場產(chǎn)生的勢壘電壓由制作材料決定，硅材料為[0.6,0.8]，鍺材料為[0.2,0.3]。

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1、加正向電壓（P->N）:勢壘區(qū)變窄，多子擴(kuò)散電流隨外加電壓增加迅速上升，少子漂移電流對總電流影響可以忽略不計，PN結(jié)呈現(xiàn)導(dǎo)通狀態(tài)（正向運用時存在門限電壓，外加電壓超過這一數(shù)值電流才明顯增長）。

2、加反向電壓（N->P）:勢壘區(qū)變寬，擴(kuò)散電流趨于零，此時通過PN結(jié)的電流為漂移電流，即反向飽和電流（與溫度相關(guān)，溫度每升高10攝氏度，反向飽和電流增大一倍），PN結(jié)呈現(xiàn)截止?fàn)顟B(tài)。

2、三極管

三極管由兩個通過基區(qū)耦合的PN結(jié)組成，與二極管相比具有完全不同的特性。

1、圖中展示了工作在放大狀態(tài)下的NPN型三極管載流子的傳輸過程（N區(qū)多子為電子，P區(qū)多子為空穴），其中I_En為發(fā)射結(jié)電子注入電流，I_Ep為發(fā)射結(jié)空穴注入電流，I_Cn為集電結(jié)電子注入電流，I_Bn為基區(qū)復(fù)合電流，I_CBO為反向飽和電流。

2、由于發(fā)射結(jié)正偏，利于兩端多子的擴(kuò)散運動，形成I_En與I_Ep，且由于發(fā)射區(qū)重?fù)诫s、基區(qū)輕摻雜，故I_En 遠(yuǎn)大于 I_Ep；注入基區(qū)的電子邊擴(kuò)散邊復(fù)合基區(qū)空穴，并從基極吸引空穴來補充，形成I_Bn；由于集電結(jié)反偏，擴(kuò)散到集電結(jié)附近的電子由于強電場力的作用越過集電結(jié)，形成I_Cn；集電結(jié)的反偏形成了反向飽和電流I_CBO，該電流與發(fā)射結(jié)無關(guān)，對三極管放大作用有害。